表面反応の解析事例#
CVD プロセスの解析事例#
CVD(Chemical Vapor Deposition)プロセスの解析事例として、SiF4(四フッ化ケイ素)と NH3(アンモニア)のガスを吹き付けて、基板表面上に Si と N が沈着する過程を解析しました。
解析条件の概要#
項目 | 設定 |
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初期設定 | 四フッ化ケイ素50% |
雰囲気温度 | 300℃ |
基板表面温度 | 1440度 |
化学反応モデル | 反応モデル(ガス反応: 33 反応式, 17 化学種, 表面反応: 6 反応式, 6 化学種) |
反応速度 | CHEMKIN® |
解析結果#
解析モデル#
蒸着面における Si 膜厚分布#
Si 膜厚分布#
蒸着速度分布#
乾燥過程の解析事例#
塗料に窒素ガスを吹き付けて乾燥させる過程を解析しました。
解析条件の概要#
解析モデル#
解析結果#
適用例#
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半導体製造、金属膜形成およびそれらの装置開発(CVD, ALD プロセス解析)
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塗布・乾燥過程(均一塗装, 膜厚コントロールなど)
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壁面液滴生成過程(センサー等の機器表面上の結露防止, 形状最適化など)
関連ページ#
- 流体解析ソフトウェア Advance/FrontFlow/red
- 解析分野:流体
- 産業分野:材料・化学